• 温度范围：室温—300℃；温度均匀性：±3%；加热速率：100℃/min; 降温速率：50℃/min；
• 压力：≤80bar；
• 压模尺寸及压印区域：?≤152mm；压印均匀性；±20nm；
• 基底尺寸：? 102mm；
• 结合最高STU制程温度：200℃；
• 曝光区域：? 6inch

系统主要用于通过紫外纳米压印和热纳米压印两种；模式进行纳米图案转移复制。复制最小结构可小于30纳米， 特点是可在全面积内最小化残余胶厚度，可同时进行紫外和热压印。